暉盛亮相 SEMICON Taiwan 2026 展示八大先進電漿技術主軸
暉盛將於SEMICON Taiwan 2026 國際半導體展 展出最先進電漿技術與應用,聚焦玻璃載板、先進封裝、矽光子、晶圓製程與綠色製造,展現電漿技術在下一世代半導體製造中的應用價值。
八大展出主軸
一、Glass Core/Glass Substrate 玻璃芯與玻璃載板
玻璃材料具備低翹曲、高尺寸穩定性及優異高頻訊號傳輸特性,逐漸成為下一世代封裝的重要材料。暉盛科技將展示應用於玻璃材料加工、表面改質及後續金屬化的電漿製程解決方案。
二、FOPLP/FOWLP 扇出型面板級與晶圓級封裝
針對扇出型面板級封裝(FOPLP)與扇出型晶圓級封裝(FOWLP),透過高均勻性、高穩定性的電漿活化與清潔技術,改善材料附著性與製程介面品質,提升封裝可靠度。
三、Plasma Drilling 電漿鑽孔
電漿鑽孔技術可應用於 ABF 載板、玻璃基板及先進封裝製程,提供高精度、低損傷的微細加工能力,因應高深寬比與高密度結構需求。
四、All Dry Method Plasma Solutions 全乾法電漿解決方案
以電漿技術取代部分濕式化學製程,協助降低化學藥液使用量與廢液排放,提升製程穩定性,回應綠色製造與 ESG 需求。
五、Wafer Plasma Process 晶圓電漿製程
現場將展示 Wafer Plasma Dicing、Wafer Plasma Thinning 及 Wafer Plasma Polishing 等晶圓電漿應用,支援晶圓切割、薄化與拋光等製程需求。
六、Wafer Reclaim 晶圓再生
透過電漿製程協助晶圓表面處理與再生,提升晶圓重複使用效益,支援半導體製程的材料效率與成本管理。
七、SiPh/CPO 矽光子與共同封裝光學
針對 AI 資料中心高速資料傳輸需求,暉盛科技將展示適用於 SiPh/CPO 的電漿表面處理解決方案,協助改善材料附著性、介面潔淨度與元件可靠度。
八、Hybrid Bonding 混合鍵合
因應 Chiplet、3D IC 與異質整合需求,電漿表面活化與清潔可改善鍵合介面品質、提升接合強度,並降低製程缺陷風險。
從玻璃載板、先進封裝,到矽光子、共同封裝光學與晶圓製程,暉盛科技持續深化電漿技術與設備研發,拓展電漿製程於下一世代半導體的應用。
🙌歡迎蒞臨 SEMICON Taiwan 2026 暉盛科技展位 L0300與我們交流。
展覽資訊
展覽日期| 2026年9月2日(三)至 9月4日(五)
展覽時間| 9月2日至3日 10:00–17:00;9月4日 10:00–16:00
展覽地點| 台北南港展覽館 1 館 4 樓
暉盛科技展位| L0300
