產品介紹

NEMST-AS2002

電漿去光阻機

電漿去光阻機
電漿去光阻機
  • 高密度電漿系統（ICP）
  • 無損傷設計
  • 具有水冷機制的電極
  • 高均勻性處理
  • 能夠進行6或8英寸晶圓處理
  • 每個負載最多25~50個晶圓
  • 一個循環處理時間約20~25分鐘
  • 半導體、LED產品各式光阻之去除。