暉盛科技 技術發展沿革
技術發展沿革

本公司研發團隊共計有來自學界、業界各電漿領域、材料、化工、機械等之數十名碩博士。目前暉盛已取得多項高密度感應耦合式 ICP 真空電漿設計專利、多項介屏障 DBD 常壓電漿專利及多項先進產業製程上的電漿專利。

2000
  • IC/LED領域展開
  • 電漿清洗機
2001
  • PCB/FPC領域展開
  • 電漿去膠渣機
2002
  • 電漿鑽孔機
2003
  • LCD/OLED領域展開
  • 各式常壓電漿清洗機
2005
  • 連續式電漿清洗機
2006
  • 3C/塑膠/車燈領域展開
2007
  • 生化/醫學領域展開
  • 生醫電漿處理機
2008
  • 觸控領域
  • 電漿去光阻機
2009
  • 殺菌除臭/廢氣處理應用發展
2010
  • 紡織應用發展
  • 高爾夫應用發展
  • 高爾夫球電漿處理機
2011
  • 電漿空氣淨化機
2012
  • 捲對捲式電漿去膠渣機
  • 連續式電漿去膠渣機
2013
  • 常壓電漿鍍膜應用展開
2014
  • 鞋處理應用發展
2015
  • 太陽能應用發展
  • 常壓電漿鍍膜機
2016
  • 高效能電漿去膠渣機
2017
  • 廢水處理技術發展
2018
  • 固態廢棄物電漿處理技術發展
  • 電漿極化機電漿極化機
  • 滾筒式電漿處理機
2019
  • 電漿減廢設備
2020
  • 高效能電漿蝕刻機(反應性離子電漿蝕刻、微波電漿)
2022
  • 晶圓再生/晶圓薄化/晶圓切割技術發展
  • 晶背殘膠電漿清洗機
2023
  • 脫碳產氫新能源技術發展
2024
  • 電漿晶圓切割/電漿晶圓薄化設備
  • 電漿甲烷裂解系統